國產(chǎn)5nm刻蝕機(jī)通過驗(yàn)證, 將用于臺積電5nm芯片制造!大突破？

2018-12-18 來源：評論：0

摘要：近日，臺積電對外宣布，將在2019年第二季度進(jìn)行5nm制程風(fēng)險試產(chǎn)，預(yù)計2020年量產(chǎn)。與此同時，中微半導(dǎo)體也向“上觀新聞”透露了一個“重磅”消息，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。

　　近日，臺積電對外宣布，將在2019年第二季度進(jìn)行5nm制程風(fēng)險試產(chǎn)，預(yù)計2020年量產(chǎn)。與此同時，中微半導(dǎo)體也向“上觀新聞”透露了一個“重磅”消息，其自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。

　　值得一提的是，中微半導(dǎo)體也是唯一進(jìn)入臺積電7nm制程蝕刻設(shè)備的大陸本土設(shè)備商。據(jù)悉，中微半導(dǎo)體與臺積電在28nm制程時便已開始合作，并一直延續(xù)到10nm和7nm制程。

　　中微半導(dǎo)體首席專家、副總裁倪圖強(qiáng)博士表示，刻蝕機(jī)曾是一些發(fā)達(dá)國家的出口管制產(chǎn)品，但近年來，這種高端裝備在出口管制名單上消失了。這說明如果我們突破了“卡脖子”技術(shù)，出口限制就會不復(fù)存在。如今，中微與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)一起，組成了國際第一梯隊，為7nm芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機(jī)。

　　他還表示，明年臺積電將率先進(jìn)入5nm制程，已通過驗(yàn)證的國產(chǎn)5nm刻蝕機(jī)，預(yù)計會獲得比7nm生產(chǎn)線更大的市場份額。

　　在半導(dǎo)體制造過程中，光刻機(jī)是決定工藝水平的關(guān)鍵，所以光刻機(jī)在媒體上的曝光率很高，不過現(xiàn)在的的半導(dǎo)體工藝涉及數(shù)百道工序，除了最核心的光刻之外，刻蝕也是很重要的一個過程——將晶圓浸入內(nèi)含蝕刻藥劑的特制刻蝕槽內(nèi)，可以溶解掉暴露出來的晶圓部分，而剩下的光刻膠保護(hù)著不需要蝕刻的部分。

　　刻蝕機(jī)就是處理這部分工藝的，與光刻機(jī)相比，刻蝕機(jī)的價格就要低多了，通常在500萬美元以內(nèi)，不過需要的數(shù)量比光刻機(jī)更多，所以也是非常重要的半導(dǎo)體制造裝備，全球領(lǐng)先的刻蝕機(jī)設(shè)備公司主要還是LAM、AMAT應(yīng)用材料等半導(dǎo)體設(shè)備巨頭，國內(nèi)主要是中微電子AMEC及北方華創(chuàng)兩家。

　　5nm刻蝕機(jī)意味著什么？

　　說完背景知識，現(xiàn)在報道的這個5nm等離子刻蝕機(jī)就是中微電子生產(chǎn)的，實(shí)際上這件事已經(jīng)是舊聞了，2017年3月11日中微電子就通過央視CCTV2頻道宣布研發(fā)成功5nm等離子刻蝕機(jī)，現(xiàn)在則是刻蝕機(jī)通過了大客戶臺積電的驗(yàn)證，可以用于5nm生產(chǎn)線了，只不過臺積電的5nm工藝還在研發(fā)中，明年才會試產(chǎn)，量產(chǎn)至少是2020年的事了。

　　需要注意的是中微半導(dǎo)體5nm刻蝕機(jī)的研發(fā)成功和獲得臺積電采用，并不代表著中國大陸就可以自己生產(chǎn)5nm工藝芯片了。因?yàn)樾酒纳a(chǎn)工藝非常的復(fù)雜，刻蝕只是眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)當(dāng)中的一環(huán)。

　　但是，很多自媒體為了吸引眼球，卻往往故意夸大事實(shí)，以點(diǎn)概面，以5nm刻蝕機(jī)這一個環(huán)節(jié)上的突破，就大肆宣揚(yáng)“中國已打破國外壟斷，掌握5nm技術(shù)”、“中國已可以制造5nm芯片”。

　　中微半導(dǎo)體CEO尹志堯尹志堯今年在接受采訪時再次強(qiáng)調(diào)：“宣傳要實(shí)事求是，不要夸大，更不要為吸引眼球，無中生有，無限上綱。說我們的刻蝕機(jī)可以加工5納米器件，也只是100多個刻蝕步驟中的幾步。”

　　確實(shí)，正如我們前面所說，刻蝕只是芯片制造眾多關(guān)鍵環(huán)節(jié)當(dāng)中的一環(huán)，在先進(jìn)制程的刻蝕設(shè)備領(lǐng)域取得突破雖然可喜，但是在其他如光刻機(jī)等領(lǐng)域，中國仍處于嚴(yán)重落后。目前國內(nèi)進(jìn)展最快的上海微電子也只是實(shí)現(xiàn)了 90nm 光刻機(jī)的國產(chǎn)化。

　　當(dāng)然，我們也不能妄自菲薄，除了中微半導(dǎo)體之外，不少國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備廠商也在一些相關(guān)領(lǐng)域的先進(jìn)制程設(shè)備上取得了突破。比如，在14nm 領(lǐng)域，硅/金屬刻蝕機(jī)（北方華創(chuàng)）、薄膜沉積設(shè)備（北方華創(chuàng)）、單片退火設(shè)備（北方華創(chuàng)）和清洗設(shè)備（上海盛美）已經(jīng)開發(fā)成功，正在客戶端進(jìn)行驗(yàn)證。

　　相信隨著國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)計及設(shè)備廠商的努力，以及中國半導(dǎo)體市場的需求快速增長的拉動，中國芯將會越來越強(qiáng)大。

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